• 990,999% Reinheit Yttriumoxidpulver für thermisch sprühbare Plasmabeständige Beschichtungen in Halbleiterkammern
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  • 990,999% Reinheit Yttriumoxidpulver für thermisch sprühbare Plasmabeständige Beschichtungen in Halbleiterkammern
990,999% Reinheit Yttriumoxidpulver für thermisch sprühbare Plasmabeständige Beschichtungen in Halbleiterkammern

990,999% Reinheit Yttriumoxidpulver für thermisch sprühbare Plasmabeständige Beschichtungen in Halbleiterkammern

Produktdetails:

Herkunftsort: Jiangxi, China
Markenname: High Broad
Zertifizierung: ISO 9001:2015, REACH
Modellnummer: Y2O3-5N

Zahlung und Versand AGB:

Min Bestellmenge: 1000 kilogramm
Preis: USD 5-100 / Kilogram
Verpackung Informationen: Vakuumversiegelter Innenbeutel mit Außenbeutel aus Aluminiumfolie, verpackt in 25-kg-Faserfässern od
Lieferzeit: 5-15 Werktage nach Auftragsbestätigung
Zahlungsbedingungen: T/T, L/C, PayPal, Western Union
Versorgungsmaterial-Fähigkeit: 500000 Kilogramm pro Monat
Bestpreis Kontakt

Detailinformationen

Dichte: 5,01 g/cm³ spezifische Oberfläche: 8-15 m²/g
Partikelgröße: 1 bis 5 μm Schmelzpunkt: 2425 °C
Kristallstruktur: Kubisch Reinheit: 990,999% (5N)
Hervorheben:

5N Yttriumoxidpulver

,

thermische Spritzbeschichtungsqualität

,

Halbleiterkammerschutz

Produkt-Beschreibung

99,999 % Yttriumoxid-Y₂O₃-Pulver in thermischer Spritzqualität für die plasmabeständige Beschichtung von Halbleiterkammern
99,999 % (5N) Yttriumoxid (Y₂O₃) Pulver in thermischer Spritzqualität

Unser 99,999 % (5N) Yttriumoxidpulver wird in China unter Verwendung fortschrittlicher Seltenerdextraktions- und Reinigungstechnologie hergestellt. Dieses Y₂O₃-Pulver in thermischer Spritzqualität wurde speziell für die thermische Spritzbeschichtung von Halbleiterkammerkomponenten entwickelt und bietet außergewöhnliche Konsistenz und Leistung in anspruchsvollen industriellen Beschichtungsumgebungen.

99.999% Yttrium Oxide Thermal Spray Grade Powder
Hauptmerkmale
  • Ultrahohe Reinheit von 99,999 % (5N) für minimale Kontamination in empfindlichen Halbleiterprozessen
  • Optimierte Partikelgrößenverteilung (1–5 μm D50) für gleichmäßige thermische Spritzabscheidung
  • Die hervorragende Plasmaätzbeständigkeit verlängert die Lebensdauer der Kammerkomponenten um das 3- bis 5-fache
  • Der hohe Schmelzpunkt (2425 °C) gewährleistet die Stabilität der Beschichtung bei extremen Temperaturwechseln
  • Geringe Verunreinigungsgrade von Fe, Na, Ca und Si gewährleisten die Reinheit der Beschichtung und die dielektrische Integrität
Technische Spezifikationen
Parameter Spezifikation
Reinheit 99,999 % (5N)
Partikelgröße D50 1-5 μm
Kristallstruktur Kubisch
CAS-Nummer 1314-36-9
Aussehen Weißes Pulver
Dichte 5,01 g/cm³
Schmelzpunkt 2425 °C
Spezifische Oberfläche 8-15 m²/g
Empfohlene Anwendungen

Dieses Yttriumoxid-Pulver wird häufig in der thermischen Spritzbeschichtung, der Plasmaspritzbeschichtung, der Keramikoberflächenbehandlung und anderen industriellen Beschichtungsprozessen verwendet, die hochreine Seltenerdmaterialien erfordern. Seine ausgezeichnete thermische Stabilität, chemische Beständigkeit und Plasmaätzbeständigkeit machen es ideal für Schutzbeschichtungen in rauen Betriebsumgebungen.

Verpackung und Lagerung

Vakuumversiegelter Innenbeutel mit Außenschicht aus Aluminiumfolie, um Feuchtigkeitsaufnahme zu verhindern. Verpackt in 25-kg-Faserfässern mit Trockenmittel. An einem kühlen, trockenen Ort fern von Säuren und Feuchtigkeit lagern.

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Jane Hu
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China Hunan High Broad New Material Co., Ltd.
70 Chezhan North Road, Changsha, China 410100
Tel: +86-731-85717705
Fax: +86-731-85716569
Mobil/WhatsApp: +86-139-7515-2932

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Ich bin daran interessiert 990,999% Reinheit Yttriumoxidpulver für thermisch sprühbare Plasmabeständige Beschichtungen in Halbleiterkammern Könnten Sie mir weitere Details wie Typ, Größe, Menge, Material usw. senden?
Vielen Dank!
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